Patentschriften für Carl Zeiss SMT (2007-2010):

  1. D. Fiolka, B. Warm, C. Steigerwald, M. Endres, R. Stützle, J. Ossmann, R. Scharnweber, M. Hauf, U. Dinger, S. Waldis, M. Kirch, J. Hartjes; "Illumination optics for EUV microlithography and related system and apparatus";  US 2013 / 8.587.767 B2; Patent date: 19.11.2013; "Illumination optics for EUV microlithography and illumination system and projection exposure apparatus comprising an illumination optics of this type"; WO 2009 / 132756 A1; International puplication date: 05.11.2009;US 2011 / 0063598 A1; Publication date: 17.03.2011

  2. M. Kirch, M. Endres, D. Fiolka, J. Hartjes; "Optisches Element mit einer Mehrzahl von reflektiven Facettenelementen"; DE 10 2009 054 888 A1; Offenlegungstag 22.06.2011; "Optical element having a plurality of reflective facet elements"; US 2012/0293785 A1, Publication date 22.11.2012WO 2011/082872 A1, Publication date 14.07.2011

  3. M. Patra, O. Dittmann, M. Kirch, M. Endres, M. Walter, S. Bieling, S. Dörn; "Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie"; DE 10 2010 029 865 A1; Offenlegungstag 08.12.2011; "Illumination optical system for EUV projection lithography"; WO 2011/154244, Publication date 15.12.2011

  4. M. Endres, S. Dörn, S. Bieling, M. Kirch; "Beleuchtungsoptik für die EUV-Mikrolithographie"; DE 10 2009 054 540 A1; Offenlegungstag 16.06.2011; "Illumination optical unit for EUV microlithography"; EP 2 333 611 A1, Date of publication 15.06.2011;US 2011/0141445 A1, Publication date 16.06.2011;

  5. M. Kirch, D. Fiolka, G.-W. Ziegler, M. Degünther, M. Schwab; "Beleuchtungssystem für die Mikrolithographie"; DE 10 2009 045 219 A1, Offenlegungstag: 31.03.2011;

  6. S. Bieling, M. Endres, M. Kirch, M. Walter, M. Hauf; "Feldfacettenspiegel zum Einsetzen einer Beleuchtungsoptik einer Projektions- belichtungsanlage für die EUV Projektions-Lithographie"; DE 10 2010 003 169 A1, Offenlegungstag: 10.02.2011;

  7. C. Ruß, M. Degünther, G. Weiß, D. Bader, M. Kirch, M. Reicherter; "System und Verfahren zur Beleuchtung eines Retikels in einer Mikrolithographie- Projektionsbelichtungsanlage"; DE 10 2009 037 646 A1; Offenlegungstag 05.08.2010;

  8. M. Kirch, M. Reicherter, D. Fiolka; "Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage"; DE 10 2008 003 289 A1; Offenlegungstag: 09.07.2009

Wissenschaftliche Schriften (vor 2007):

  1. M. Kirch; "From QCD evolution to non-compact spin chains"; Dissertation; Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Physik und Astronomie; 2006; urn:nbn:de:hbz:294-16749

  2. M. Kirch, A. N. Manashov, A. Schäfer; "Evolution equation for generalized parton distributions''; Phys. Rev. D 72, 114006; 2005

  3. M. Kirch, P.V. Pobylitsa, K. Goeke; "Inequalities for nucleon generalized parton distributions with helicity flip''; Phys. Rev. D 72, 054019; 2005

  4. A. N. Manashov, M. Kirch, A. Schäfer; "Solving the leading order evolution equation for GPDs''; Phys. Rev. Lett. 95, 012002; 2005

  5. M. Kirch, A. N. Manashov; "Noncompact SL(2,R) spin chain"; JHEP 06/035, 2004;

  6. M. Kirch;“Baryonische Formfaktoren bei großer Virtualität - Ungleichungsabschätzungen für generalisierte Partonverteilungen”; Diplomarbeit; Ruhr- Universität Bochum; 2002; nicht veröffentlicht